Situation
Solarzellen auf einem konstanten Qualitätsniveau zu produzieren ist ein wichtigen Erfolgsfaktor. Leistungsunterschiede der Zellen werden während der unterschiedlichen Prozessschritte verursacht. Der Schichtwiderstand wird von Parametern beeinflusst, die beim Erzeugen des pn-Übergangs während des thermodynamischen Prozesses der Phosphor-Diffusion auftreten können. Der DIFF-SHR ermöglicht eine konstante und verlässliche Kontrolle des Schichtwiderstands. So können Probleme, die zu seinen Abweichungen führen, schnell identifiziert, beseitigt und künftig vermieden werden.
Prinzip
- Oberflächen-Photostrom (SPV: surface photovoltage)
- Kontaktlose Vierpunkt-Messsystem
- Konzentrische Ringelektroden detektieren das SPV-Signal
- Schichtwiderstand wird mithilfe der detektierten Potentiale bestimmt
Vorteile
- Einfache Integration
- 100% Kontrollrate sogar bei Taktzeiten von einer Sekunde
- Software ermöglich schnelle Auswertungen der Messergebnisse
- Zusätzliche Protokolle und Schnittstellen für erweiterte Anwendungen sind verfügbar
Technische Daten
Thema |
Beschreibung |
Messproben |
- Mono- und multikristalline Wafer - Quadratisch und Pseudo-quadratisch - Texturierte und nicht texturierte Oberflächen - Diffundierte Schichten (n+p und p+n) |
Wafergröße |
125 … 210 mm |
Messbereich |
8…100 Ohms/sqr |
Messfleck |
~ 20 mm diameter |
Schnittstelle (zur Automatisierung) |
- Parallel I/O - Parallel I/O (kombiniert mit RS232 für WaferID) - Profibus |
Datenschnittstelle (zum Unternehmensnetzwerk |
- OPC (server) - XML via TCP/IP |
Hinweis: Alle technischen Details können sich ohne Vorankündigung ändern. Nur die technischen Spezifikationen im Angebot sind verbindlich.