Situation
Mit der nasschemischen Texturierung von Wafermaterial lässt sich im erheblichen Maß die Leistung der Solarzelle beeinflussen. Während für monokristalline Wafer meist ein alkalisches Verfahren angewendet wird, werden multikristalline Wafer sauer texturiert. Die genaue Kenntnis über die chemische Zusammensetzung der Texturlösung ist eine der Bedingungen für die sichere Prozesskontrolle. Das GP iRED3000 ermöglicht eine schnelle und zuverlässige Inline-Messung und Analyse von alkalischen und sauren Texturlösungen.
Prinzip
FT-NIR spektroskopische Messung (basierend auf dem Thermo Scientific AntarisTM MX FT-NIR Spektrometer):
- Zu messendes Medium wird durch einen Analysekreislauf gepumpt
- Durchstrahlung der Texturlösung mit IR-Licht in der Küvette im Analysekreislauf
- Analyse der Licht-Absorption
- Berechnung der Konzentration der chemischen Spezies in der Lösung mittels spezieller Auswertungsmethode
Vorteile
- Schnelle Messung (ca.1 Messung pro Minute und Bad)
- Gleichzeitige, parallele Messung von bis zu 4 Bädern
- Keine Probenentnahme, keine Chemikalien im Spektrometer
- Keine Verbrauchsmaterialen zur Messung nötig
- Praktisch wartungsfrei
Technische Daten
Beschreibung |
GP iRED3000 KOH_IPA_Si |
GP iRED3000 HF_HNO3_Si |
Messkanäle |
Bis zu 4 pro Spektrometer |
Bis zu 4 pro Spektrometer |
Gemessene Chemikalien |
KOH, IPA, Si |
HF, HNO3, Si |
Messbereich |
KOH: 10 - 40 g/l [5%] IPA: 15 - 60 g/l [3%] Si: 0 - 50 g/l [3%] |
HF: 50 - 130 g/l [2%] HNO3: 250 - 400 g/l [3%] Si: 0 - 50 g/l [3%] |
Temperaturbereich |
78 - 82 °C |
6 - 8 °C |
Hinweis: Alle technischen Details können sich ohne Vorankündigung ändern. Nur die technischen Spezifikationen im Angebot sind verbindlich.